2024-2028年全球PCB曝光设备行业市场研究报告-28页

2024-2028年全球PCB曝光设备行业市场研究报告2024年8月2Uresearch�����������������������������������������������������������������������������������������������������������������������������������������������3本报告为Uresearch的调研与研究成果，报告内所有数据、观点、结论的版权均为Uresearch所有。任何机构和个人摘引本报告，必须注明出处为Uresearch，且不可断章取义或增删、曲解本报告内容。本报告所涉及的数据来源于企业、KOL和市场公开数据，采用的统计方法、数据模型等有其局限性，以Uresearch认为可靠、准确、完整的信息为基础，但不保证报告所含信息的精准性和完整性。Uresearch将不时补充、修订或更新有关信息。本报告所含信息仅供参考，任何内容均不作为商业建议。对依据或者使用本报告所造成的一切后果，Uresearch不承担任何法律责任。声明4目录一、PCB曝光设备行业基本情况二、全球PCB曝光设备行业发展概况及市场规模三、我国PCB曝光设备行业发展概况及市场规模5光刻与曝光的基本概念图形曝光工艺光刻的主要工艺流程预处理涂胶曝光显影蚀刻去胶图形转移前图形转移后光刻技术（Photo-lithography）是人类迄今所能达到的尺寸最小、精度最高的加工技术，是利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将设计好的微图形结构（如电路线路图）转移到覆有感光材料的晶圆、玻璃基板、覆铜板等基材表面上的微纳制造技术。光刻技术主要包括预处理、涂胶、曝光...