光刻机行业海外硬科技龙头复盘研究系列之九：国之重器，路虽远行则将至-240822-东兴证券-31页(1)

敬请参阅报告结尾处的免责声明东方财智兴盛之源业研究东兴证券股份有限公司证券研究报告光刻机行业：国之重器，路虽远行则将至——海外硬科技龙头复盘研究系列之九2024年8月22日看好/维持电子行业报告分析师刘航电话：021-25102913邮箱：liuhang-yjs@dxzq.net.cn执业证书编号：S1480522060001投资摘要：光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠，光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键一环。光刻机是芯片制造流程中的核心设备，其光刻的工艺水平直接决定芯片的制程、性能，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键步骤，耗时长、成本高。光刻机原理类似相机照相，发出光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后发生性质变化，使图形复印到薄片上，使薄片具电子线路图作用。其中分辨率直接决定制程，是最重要的指标；套刻精度影响良率；生产效率影响产能及经济性。光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机，市场主流有i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类。掩膜光刻机由光源发出光束，经掩膜板在感光材料上成像，又可分为接近、接触式及投影式，投影式为主流，还可分为UV、DUV、EUV。直写式光刻机用计算机控制光束投影至涂感光材料的基材上，无掩膜进行曝光，又可分为光学直写、带电粒子直写。直写光刻机在半导体应用领域窄，体量小，是掩膜光刻机的补充。市场主流光刻机有i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类。光刻机产业链上游所需零件设备众多复杂，下游半导体市场驱动行业发展。零件、组件和设备为上游供应。下游市场主要为半导体市场，全球半导体市场规模稳步扩张，使光刻机需求稳步增长。受益...