一张图看懂高纯溅射靶材行业

一张图看懂高纯溅射靶材新材料在线2016年05月基础知识01高纯溅射靶材的简介溅射利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面原子离开固体并沉积在基底表面的过程高纯溅射靶材在溅射过程中，高速度能的离子束流轰击的目标材料，称之为溅射靶材，是沉积薄膜的原材料；而利用各种高纯单质贵金属及新型合金及化合物制得的功能薄膜则为高纯溅射靶材旋转磁场溅射靶材高电压氩气等气体高真空腔体沉积薄膜基板Copyrights©xincailiao.com.AllRightsReserved02高纯溅射靶材的发展进程1842年格罗夫才实验室发现了阴极溅射现象19世纪中后期对溅射机理的认同以及相关技术发展缓慢20世纪只有化学活性极强的材料、初期介质材料等采用溅射技术20世纪磁控溅射技术出现，应用70年代于实验和小型生产20世纪溅射技术进入工业化大80年代量生产的应用领域21世纪新型溅射技术出现，高以来纯金属溅射靶材成为热点材料Copyrights©xincailiao.com.AllRightsReserved03高纯溅射靶材的分类及应用按照化学成分，可将溅射靶材分为：金属靶材（纯金属铝、钛、铜、钽等）合金靶材（镍铬合金、镍钴合金等）陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物等）由于应用领域的不同，溅射靶材对金属材料的选择和性能要求存在一定的差异应用领域金属材料性能要求半导体芯片超高纯度铝、技术要求最高、超高纯度金钛、铜等属、高精度尺寸、高集成度平面显示器高纯度铝、铜、技术要求高、高纯度材料、钼等材料面积大、均匀性程度高太阳能电池高纯度铝、铜、技术要求高、应用范围大钼...