薄膜沉积设备领军者，业绩优异长期增长确定性强

请务必阅读最后一页股票评级说明和免责声明1半导体设备拓荆科技（688072.SH）增持-A(首次)薄膜沉积设备领军者，业绩优异长期增长确定性强2024年2月3日公司研究/深度分析公司近一年市场表现市场数据：2024年2月2日收盘价（元）：159.66总股本（亿股）：1.88流通股本（亿股）：1.03流通市值（亿元）：163.93基础数据：2023年9月30日每股净资产（元）：21.76每股资本公积（元）：17.04每股未分配利润（元）：3.43资料来源：最闻分析师：高宇洋执业登记编码：S0760523050002邮箱：gaoyuyang@sxzq.com徐怡然执业登记编码：S0760522050001邮箱：xuyiran@sxzq.com投资要点：薄膜沉积赛道领军者，订单饱满业绩亮眼。公司聚焦薄膜沉积设备研发生产，目前已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等薄膜设备产品系列，广泛应用于国内集成电路逻辑芯片、存储芯片等制造产线，性能参数已达到国际同类设备水平。受益下游扩产和国产替代，公司订单饱满收入逐年提升，盈利水平拾级而上。预计2023年末在手销售订单金额超过64亿元（不含Demo订单），较上年同期增加39.07%。薄膜沉积是半导体制造核心设备，技术壁垒高国产替代空间广阔。薄膜性能直接影响电路图形转移质量和芯片芯能，设备设计制造壁垒较高。2022年薄膜沉积设备在全球半导体设备市场中占比为22%，市场规模约为230亿美元，主要由海外厂商垄断。薄膜沉积设备国产化进程较慢，替代空间广阔。若国产化率提升至50%，对应全球千亿级设备市场规模，国内厂商未来市场空间可达30亿美元以上。技术实力确立领先优势，产能扩充与布局拓展护航长期增长。公司设备型号丰富，广泛覆盖不同薄膜材料工艺需...