半导体零部件之射频电源行业动态报告：半导体制程设备核心零部件射频电源，国产验证与替代加速

敬请参阅最后一页特别声明-1-证券研究报告2023年6月5日行业研究半导体制程设备核心零部件射频电源，国产验证与替代加速——半导体零部件之射频电源行业动态报告机械行业射频电源为等离子体配套电源，广泛应用于半导体与泛半导体领域。射频电源主要由射频信号源、射频功率放大器及阻抗匹配器组成，属于可以产生固定频率正弦波、具有一定频率的高频交流电源，工作频率一般处于2MHz至60MHz之间。其本质是等离子体配套电源，在低压或常压下产生等离子体，并利用等离子体不同的化学性能，广泛应用于半导体工艺设备（PVD、PECVD、刻蚀、离子注入、清洗）、LED、光伏、医疗等领域。以ICP刻蚀机台为例，ICP放电系统通常使用两个射频功率源。第一个是sourceRF，射频功率源驱动线圈，一般外置且由介质窗口与等离子体隔离开。射频电流流过线圈时会在线圈附近的等离子体中产生一个衰减距离为几厘米的扰动波，其扰动可在等离子体中感应出射频电流，将电磁场能量传递给电子，即驱动线圈的射频功率控制等离子体密度。第二个是biasRF，射频功率源加在基板上，产生的直流偏压可将离子吸引至晶圆上，作为偏压电源可以独立控制等离子体密度和离子轰击基板的能量。两个RF电源搭配可以实现更高的蚀刻速率、更大的工艺窗口，提高良率水平。核心技术难点在于参数稳定性、控制精度与阻抗匹配。射频电源主要技术难点在于电源波形、频率和功率等参数稳定性的提升，以及在腔体中激发出的等离子体浓度、均匀度及相应的控制精度，稳定性与控制精度对于薄膜沉积厚度、密度、应力、速率，以及深孔刻蚀质量至关重要。此外，半导体制程微缩化发展，3DIC时代芯片制造...