掩膜版行业深度报告：光刻蓝本亟待突破，国产替代大有可为

本公司具备证券投资咨询业务资格，请务必阅读最后一页免责声明证券研究报告1掩膜版行业深度报告光刻蓝本亟待突破，国产替代大有可为2023年11月04日➢掩膜版：电子制造之底片，晶圆光刻之蓝本。掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版，按照制造材料可以分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（菲林、凸版、干版），按照下游应用领域可以主要分为平板显示掩膜版、半导体掩膜版、触控掩膜版、电路板掩膜版。掩模版对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光刻胶。在集成电路领域，光掩模的功能类似于传统相机的“底片”，在光刻机、光刻胶的配合下，将光掩模上已设计好的图案，通过曝光和显影等工序转移到衬底的光刻胶上，进行图像复制，从而实现批量生产。国内掩膜版厂商的上游材料以及设备严重依赖日韩厂商。生产制造方面，掩膜版的制造工艺复杂，主要的生产工艺包括：光刻、显影、蚀刻、脱膜以及清洗。➢全球竞争格局：海外寡头垄断，国产厂商持续发力。1）细分市场规模：掩膜版的主要应用领域为半导体与平板显示。半导体领域，2022年全球光掩模版市场规模大约为58.11亿美元；平板显示领域，根据Omdia数据，全球平板显示掩膜版2022年市场规模达1026亿日元。2）竞争格局：据SEMI的数据统计，2019年全球芯片掩膜版市场中，65%的市场份额由晶圆厂自行配套的掩膜版工厂占据，剩余35%的份额则被独立第三方掩膜工厂瓜分。3）国产化进程：半导体领域，国产厂商暂时集中在芯片封测用掩膜版以及100nm节点以上的晶圆制造用掩膜版，技术水平与国际领先的企业有较大差距；平板显示领域，G11代线的掩膜版产品已有国产厂商突破垄断，精度方面离国际最高...