半导体技术前瞻专题系列之一:电子行业:AI半导体的新结构、新工艺、新材料与投资建议-20240108-东兴证券-17页

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行业研究电子行业:AI半导体的新结构、新工艺、看好/维持2024年1月8日新材料与投资建议东电子行业报告兴证——半导体技术前瞻专题系列之一分析师券股投资摘要:份有半导体行业现状:晶圆厂建设成本加大,AI相关开支明显提升。在人工智能和汽车电动化的产业趋势下,半导体增长逻辑在限强化,2030年半导体市场规模有望突破1万亿美元。随着工艺节点的突破,半导体研发投入和晶圆厂建设成本大幅提升,公5nm晶圆厂建设成本高达54亿美元。晶体管微缩、3D堆叠等促进了CMOS先进工艺方面的投资,2024-2027年半导体制司造设备市场有望保持持续增长。预计半导体公司AI/ML相关EBIT快速增长,中长期有望增加至每年850-950亿美元。AI对证于半导体制造产生的贡献最大,约为380亿美元,但芯片研发和设计成本有望降低。未来越来越多的数据中心使用高性能服券研务器,预计2027年AI半导体销售额快速增长。究随着AI半导体晶体管数量增加,通过引入MPU、增大芯片面积,算力大幅提升,接下来我们对于AI半导体的新结构、新报工艺和新材料等产业趋势进行前瞻性分析。告(一)新结构:晶体管微缩、存储器件堆叠,电容使用MIMCAP结构。AI半导体器件的新结构将加速由FinFET向GAA转刘航电话:021-25102913邮箱:liuhang-yjs@dxzq.net.cn执业证书编号:S1480522060001变。GAAFET的器件结构中,沟道外延层、源极/漏极外延层出现多层结构,此外高性能/高带宽的DRAM使用High-k材料和金属材料,而这些材料和工艺都需要更多的ALD和PVD外延工艺。另外,随着生成式AI的发展,大容量数据高速运转,DRAM芯片使用HBM结构来降低互联的延迟。随着AI半导体的发展,未来将更多...

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